英特尔获得30亿美元的直接拨款,用于"安全飞地"计划,旨在为美国政府扩大对尖端半导体的可信制造。该计划是建立在英特尔与美国国防部之前合作的项目之上,包括"快速保障微电子原型-商业项目"和"先进异构集成原型"。英特尔将确保美国国内芯片供应链的安全,与美国国防部合作推进安全、尖端的解决方案。
TechIntel | Duplicated with: 1 | Rating: 57 | 2024-09-18 07:00:46 AM |
英伟达旗下的风险投资公司投资了数百万美元给nTop公司,帮助这家设计软件开发商快速崛起。nTop的CAD软件可以让工程师设计出复杂的部件,用于尖端火箭发动机到精密骨科植入物等。nTop 5软件可以模拟机械零件的真实功能,已经被西门子、美国国家航空航天局、福特、特斯拉等行业巨头纳入其新产品设计的核心工具集。
Tech英伟达 | Rating: 48 | 2024-09-18 01:00:35 AM |
台积电位于亚利桑那州的Fab 21晶圆厂已经投入运营,开始生产适用于iPhone 14 Pro的A16 SoC,采用N4P工艺。该项目的规划可追溯至2020年,预计未来几个月内将增加产量,计划在2025年上半年达到生产目标。台积电发言人表示,亚利桑那项目正按计划顺利推进。
Technology台积电 | Duplicated with: 1 | Rating: 59 | 2024-09-18 12:10:27 AM |
ASML宣布限制为中国客户提供高端光刻机的售后服务,中国半导体行业面临新的挑战。华为、小米、阿里巴巴等中企已经开始自研芯片,中芯国际的营收连续力压格芯和联电成为全球第二的垂类晶圆制造厂商。中国芯片总产量和出口总额不断攀升,离70%芯片国产化的目标越来越近。
AIASML | Duplicated with: 1 | Rating: 57 | 2024-09-17 05:00:45 PM |
2024-09-16 03:40:31 PM |
字节跳动计划与台积电合作,2026年前量产两款自主设计的半导体,预计生产数十万枚芯片,减少对英伟达芯片的依赖,用于开发和运行 AI 模型。
AI字节跳动 | Duplicated with: 1 | Rating: 81 | 2024-09-16 02:40:53 PM |
中国的光刻机已取得了重大进展,两款较为先进的光刻机已投入使用,分辨率小于65纳米和110纳米,套刻精度小于8纳米和25纳米。ASML的DUV光刻机分辨率可以达到38纳米以下,缩刻精度达到5.5纳米以下;EUV光刻机的分辨率达到13纳米以下,套刻精度达到2纳米以下。中国的光刻机生产企业上海微电子申请了EUV辐射发生器和光刻设备,国产EUV光刻机自研并非虚言。
AI国产 | Duplicated with: 1 | Rating: 56 | 2024-09-16 03:20:46 AM |
国产光刻机的氟化氩光刻机,光源193nm,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。该设备在光源上处于主流且较为先进的水平,能够满足一定程度上的高端芯片制造需求。工信部公共发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》显示,该设备已经达到28nm工艺上,已经有能力实现国产替代。
Technology光刻机 | Rating: 59 | 2024-09-15 07:00:23 PM |
荷兰的ASML研发的EUV光刻机是全球半导体制造领域的核心设备,美国对中国光刻机出口实施了严格限制,但中国企业开始自己搞研发,浙江计划投资50亿建光刻机工厂,标志着中国芯片产业向自主技术高峰攀登的坚实步伐。
AIASML | Rating: 57 | 2024-09-15 03:10:31 PM |